הייצור הספציפי של תאים סולאריים כולל 10 שלבים כגון חיתוך, ניקוי, הכנת משטח מרקם, דיפוזיה של זרחן, הסרת צומת ה-PN האחורי פלוס, יצירת אלקטרודות עליונות ותחתונות, ייצור סרט אנטי-השתקפות, סינטר וסיווג בדיקה.
1. חיתוך: השתמש בחיתוך רב חוטי כדי לחתוך מוטות סיליקון לפרוסות סיליקון מרובעות.
2. ניקוי: השתמש בשיטות ניקוי פרוסות סיליקון קונבנציונליות לניקוי, ולאחר מכן השתמש בתמיסת חומצה (או אלקלית) כדי להסיר 30-50אום משכבת הנזק החתוך על פני השטח של פרוסת הסיליקון.
3. הכנת משטח מרקם: תחריט אנזוטרופי של פרוסות סיליקון עם תמיסה אלקלית להכנת משטחים בעלי מרקם על פני פרוסות סיליקון.
4. דיפוזיה של זרחן: השתמש במקור ציפוי (או מקור נוזלי, או מקור פתיתי זרחן ניטריד מוצק) לצורך דיפוזיה ליצירת צומת PN פלוס, עומק הצומת הוא בדרך כלל 0.3-0.5um.
5. תחריט היקפי: שכבת הדיפוזיה שנוצרת על פני השטח ההיקפיים של פרוסת הסיליקון במהלך הדיפוזיה תקצר את האלקטרודות העליונות והתחתונות של הסוללה, ושכבת הדיפוזיה ההיקפית מוסרת על ידי מיסוך תחריט רטוב או תחריט יבש בפלזמה.
6. הסר את צומת ה-PN פלוס האחורי. צומת PN פלוס האחורי מוסר בדרך כלל על ידי תחריט רטוב או שחיקה.
7. הכינו את האלקטרודות העליונות והתחתונות: השתמשו באידוי ואקום, בציפוי ניקל ללא אלקטרו או בהדפסה וסינטרינג של אלומיניום. צור תחילה את האלקטרודה התחתונה, ולאחר מכן צור את האלקטרודה העליונה. הדפסת משחת אלומיניום היא שיטת תהליך בשימוש נרחב.
8. ייצור סרט אנטי השתקפות: על מנת להפחית את אובדן ההשתקפות התקרית, יש לכסות שכבה של סרט אנטי השתקפות על פני פרוסת הסיליקון. חומרים להכנת ציפויים נגד השתקפות כוללים MgF2, SiO2, Al2O3, SiO, Si3N4, TiO2, Ta2O5 וכו'. שיטת התהליך יכולה להיות שיטת ציפוי בוואקום, שיטת ציפוי יונים, שיטת התזת, שיטת הדפסה, שיטת PECVD או שיטת התזה וכו'. .
9. סינרינג: שבב הסוללה מסונט על לוחית בסיס ניקל או נחושת.
10. סיווג מבחן: על פי מפרט הפרמטר שצוין, סיווג מבחן.
